Exposure စက် PCB တိုက်နယ်ဘုတ်အဖွဲ့ကုန်ထုတ်လုပ်မှု

ထိတွေ့နိုင်သောစက်များ - Semiconductor Troachuring နောက်ကွယ်မှမှော်

SemiconDuctor Production ၏ရှုပ်ထွေးသောလောကတွင် lithography စက်များသည် Orcography Machines များကဲ့သို့ရပ်တည်နိုင်သည်။ ဤ lithographic နည်းပညာသည်ပေါင်းစပ်ထားသော circuit (IC) လုပ်ကြံထုတ်လုပ်မှုအတွက်ရှုပ်ထွေးဆုံးနှင့်အရေးကြီးသောအဆင့်များထဲမှတစ်ခုဖြစ်သည်။ ခေတ်သစ်နည်းပညာရှိ lithography စက်များ၏လုပ်ဆောင်မှုများ, အမျိုးအစားများနှင့်အရေးပါမှုကိုလေ့လာကြပါစို့။

litgography စက်အလုပ်လုပ်သည်

lithography စက်၏နှလုံးတွင်ရှုပ်ထွေးသော circuit ဒီဇိုင်းများကို photorithography မှ Photoresist မှ Photoresist ဖြင့် coatsist မှ silicon wafer သို့လွှဲပြောင်းပေးနိုင်သည့်စွမ်းရည်ကိုတည်ရှိသည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အဓိကအဆင့်များစွာပါ 0 င်သည်။

1 ။ မျက်နှာဖုံးကြိုတင်ပြင်ဆင်မှု - Reticle သို့မဟုတ် Mask သည် circuit ဒီဇိုင်းပုံစံကိုပါ 0 င်သည်။ ဤမျက်နှာဖုံးသည်အလွန်အမင်းလေးနာရီရှိသည့်အသေးစိတ်အစီအစဉ်တစ်ခုဖြစ်ပြီးထူးခြားသောအရွယ်အစားသည်နာနိုမီသို့ရောက်နိုင်သည်။

2 ။ Photoresist Coating: ဆီလီကွန်ဝိုင်၏မျက်နှာပြင်သည်အလင်းရောင်နှင့်ထိတွေ့မှုအပေါ်၎င်း၏ဂုဏ်သတ္တိများကိုပြောင်းလဲစေသောအလင်းရောင်အထိခိုက်မခံသောအလင်းရောင်ဖြင့်အညီအမျှဖုံးအုပ်ထားသည်။

3 ။ ထိတွေ့မှု - တိကျသောလှိုင်းအလျားတစ်ခု သုံး. Lithography စက်သည်ပုံစံကို Photoresist Layer သို့အသုံးပြုသည်။ မျက်နှာဖုံးဖြင့်မတက်သည့်နေရာများသည်အလင်းထိတွေ့မှုကြောင့်ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာပြောင်းရွှေ့မှုကိုခံယူကြသည်။

4 ။ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု - ထိတွေ့ပြီးနောက် Photoresist ၏ပြောင်းလဲထားသောအပိုင်းများကိုဖယ်ရှားရန် developer solution ကိုအသုံးပြုသည်။

5 ။ ခုံသန့်စင်ခြင်း - နောက်ဆုံးအဆင့်တွင်ဖွံ့ဖြိုးပြီးသော Photoresist မှထိတွေ့နိုင်သောဒေသများရှိဆီလီကွန်ကိုဖယ်ထုတ်ခြင်း, နောက်ဆက်တွဲအလွှာများသို့မဟုတ်အပြောင်းအလဲနဲ့အတွက် wafer ကိုပြင်ဆင်ရန်သန့်ရှင်းရေးပြုလုပ်ခြင်းဖြစ်သည်။

lithography စက်အမျိုးအစားများ

lithography စက်များသည်ပုံစံအမျိုးမျိုးဖြင့်လာသည်။ တစ်ခုချင်းစီသည် chip ထုတ်လုပ်မှုအဆင့်အမျိုးမျိုးအတွက်အကောင်းဆုံးဖြစ်သည်

Proximity lithraphy: masker ကိုတိုက်ရိုက်ဆက်သွယ်မှုမရှိဘဲ wafer နှင့်နီးကပ်စွာနေရာချထားခြင်း,

ဆက်သွယ်ပါ lithography - photoresist-coatcher ကိုဆန့်ကျင်။ မျက်နှာဖုံးကိုတိုက်ရိုက်နှိပ်ခြင်း,

Stepper နှင့် Scan lithography - ဤအဆင့်မြင့်စက်များသည်တစ်လှည့်ဖှယျမျက်နှာပြင်ကိုဖြတ်ပြီးမျက်နှာဖုံးပုံစံ (Stepper) တွင်သို့မဟုတ်မျက်နှာဖုံးနှင့်ပြောင်ပြောင်မှု (စတီဖယာကိုစကင်ဖတ်စစ်ဆေးရန်ဤရွေ့ကားအဆင့်မြင့်ဆိုင်ရာစာရွက်စာတမ်းများကိုအသုံးပြုသည်။

Euv lithography (Extrex Ultraviolet) - lithography တွင် Lithography တွင်နောက်ဆုံးပေါ်နည်းပညာသည်လာမည့်မျိုးဆက်ဆိုင်ရာ microprocessor များ၏ထုတ်လုပ်မှုအတွက်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော sub-sub-sub-sub-sub-sub-sub-sub-subsprocesss တွင်ဆုံးဖြတ်ရန် EUV Light ကိုအသုံးပြုသည်။

ခေတ်သစ်နည်းပညာအတွက်အရေးပါမှု

lithography စက်များသည် Semiconductor နည်းပညာတိုးတက်ရေးတွင်အဓိကအားဖြင့်အီလက်ထရောနစ်အစိတ်အပိုင်းများကိုအသေးစားစီးပွါးရေးနှင့်ပိုမိုကောင်းမွန်သော, ထိရောက်သော, ပိုမိုမြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်သေးငယ်သည့်ပုံစံအချက်များ 0 ယ်လိုအားမှာဆက်လက်တိုးတက်နေသဖြင့်အီလက်ထရွန်နစ်ထုတ်လုပ်မှုတွင်ဖြစ်နိုင်သောအရာများ၏နယ်နိမိတ်များကိုတွန်းအားပေးရာတွင်ဤခေတ်မီသောစက်များ၏အရေးပါမှုကိုပြုလုပ်သည်။

lithography စက်များ၏ဆင့်ကဲဖြစ်စဉ်သည် Semiconductor Industry ၏တိုးတက်မှုနှင့်ဆင်တူသည်, စားသုံးသူအီလက်ထရောနစ်ပစ္စည်းများထံမှဆန်းသစ်တီထွင်မှုကိုရှာဖွေခြင်းကိုမောင်းနှင်ခြင်း။ ယနေ့ခေတ်တွင်ကျွန်ုပ်တို့နေထိုင်သောဒစ်ဂျစ်တယ်ကမ္ဘာကြီးကိုဖန်တီးနိုင်သည့်နောက်ကွယ်ရှိ unsung သူရဲကောင်းများအဖြစ်အမှုဆောင်နေသောခေတ်မီနည်းပညာဆိုင်ရာတိုးတက်မှုများအနေဖြင့်သူတို့၏အခန်းကဏ် in တွင်သူတို့၏အခန်းကဏ် in တွင်၎င်းတို့၏အခန်းကဏ် in တွင်အလွန်အမင်းလွှမ်းမိုးနိုင်မည်မဟုတ်ပါ။